一、集成电路布图设计专有权的内容
1、复制权
即专有权人有权通过光学的、电子学的方式或其他方式来复制其受保护的布图设计。
2、商业利用权
即专有权人享有将受保护的布图设计以及含有该布图设计的集成电路或含有此种集成电路的产品进行商业利用的权利。但是布图设计权并不包括精神权利。
二、布图设计权的行使
1、布图设计权的转让
布图设计权的转让，就是权利人将其全部权利转让给受 让人所有。根据我国《集成电路布图设计保护条例》的规定，转让布图设计权的，当事人应当订立书面合同，并向国务院知识产权部门登记并公告。
2、布图设计权的许可
当事人应当订立书面合同。
三、设计权的保护
1、保护期限
布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。
2、、侵权行为及责任措施
所谓布图设计的侵权，是指侵犯了布图设计人的权利，依法应当承担的法律责任。包括侵犯布图设计人的复制权和商业利用权。
1、民事责任：侵权行为人须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。赔偿数额为侵权人所获得的利益或被侵权人所受到的损失，包括被侵权人为制止侵权行为所支付合理开支。
2、行政责任：责令停止侵权行为，没收、销毁侵权产品或物品。
3、即发侵权的制止：布图设计权利人或利害关系人有证据证明他人正在实施或即将实施侵犯其专有权的行为，如不及时制止将会使其合法权益受到难以弥补的损害，可在起诉前依法向法院申请采取责令停止有关行为和财产保全的措施。