集成电路布图设计专有权主要包括复制权和商业利用权两种。其具体内容如下：
根据我国《集成电路布图设计保护条例》及其实施细则的相关规定，与登记申请的复审和复议一样，集成电路布图设计专有权的撤销机构也是国家知识产权局专利复审委员会
布图设计专有权，是指通过申请注册后，依法获得的利用集成电路设计布图实现布图设计价值得到商业利益的权利。
根据《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路布图设计保护条例实施细则》的有关规定，申请人向国家知识产权局提交申请后可能会出现如下几种情况：
商业秘密保护的特殊性通常要去员工入职签署保密协议，与此相类似的另一个制度是竞业限制制度。尽管二者有一定的相似度，但确实完全不同的两种法律制度。
